不同抛光系统对纳米树脂表面粗糙度和菌斑黏附的影响

doi:10.3877/cma.j.issn.1674-1366.2016.01.004

中华口腔医学研究杂志(电子版) ›› 2016, Vol. 10 ›› Issue (01) : 17 -21. doi: 10.3877/cma.j.issn.1674-1366.2016.01.004

所属专题：文献；

基础研究

不同抛光系统对纳米树脂表面粗糙度和菌斑黏附的影响

马可¹, 高燕¹^,^†(

), 童忠春¹, 蒋晓琼², 林冬佳¹

^1. 510055　广州，中山大学光华口腔医学院·附属口腔医院，广东省口腔医学重点实验室
^2. 518048　深圳，南方医科大学附属深圳妇幼保健院口腔病防治中心

收稿日期:2015-12-21 出版日期:2016-02-01
通信作者: 高燕
基金资助:
广东省科技计划(2010B031100023)

Influence of different finishing and polishing techniques on the surface roughness of nanofilled composite resin and adhesion of Streptococcus mutans

Ke Ma¹, Yan Gao¹^,^†(), Zhongchun Tong¹, Xiaoqiong Jiang², Dongjia Lin¹

^1. Guanghua School of Stomatology, Hospital of Stomatology, Sun Yat-sen University, Guangdong Provincial Key Laboratory of Stomatology, Guangzhou 510055, China
^2. Stomatology Health Care Center, Shenzhen Maternity and Child Healthcare Hospital, The Affiliated Hospital of Southern Medical University, Shenzhen 518048, China

Received:2015-12-21 Published:2016-02-01
Corresponding author: Yan Gao
About author:
Corresponding author: Gao Yan, Email: gaoyankq@aliyun.com

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引用本文：

马可, 高燕, 童忠春, 蒋晓琼, 林冬佳. 不同抛光系统对纳米树脂表面粗糙度和菌斑黏附的影响[J]. 中华口腔医学研究杂志(电子版), 2016, 10(01): 17-21.

Ke Ma, Yan Gao, Zhongchun Tong, Xiaoqiong Jiang, Dongjia Lin. Influence of different finishing and polishing techniques on the surface roughness of nanofilled composite resin and adhesion of Streptococcus mutans[J]. Chinese Journal of Stomatological Research(Electronic Edition), 2016, 10(01): 17-21.

目的

研究比较5种抛光系统处理纳米树脂后的表面粗糙度及其对细菌黏附程度的影响。

方法

Filtek Z350 XT纳米树脂制作54个样本，随机平均均分为6组，每组9个。其中5组为实验组（抛光组）分别用OptiDisc、HiLuster^Plus、Sof-Lex、Super-snap以及Composite Polishing Kit CA0310等5种抛光系统修整、抛光，另1组不做抛光处理为对照组。激光共聚焦扫描显微镜测定样本表面粗糙度（Ra）。将上述样本与变异链球菌于体外混合培养24 h，测定其表面细菌黏附量。采用单因素方差（One-Way ANOVA）分析方法对样本表面粗糙度和生物膜菌落计数结果进行统计学分析。

结果

实验组中HiLuster^Plus组的Ra值最低平均（0.196 ± 0.02）μm，与Composite Polishing Kit CA0310组相比差异有统计学意义（P= 0.016）；其余各实验组间Ra值无显著差异，均能达到较低的粗糙度值。5个实验组的细菌黏附量均低于对照组，差异有统计学意义（P<0.05）；5个实验组间的细菌黏附量差异无统计学意义（P>0.05）。

结论

HiLuster^Plus抛光系统处理纳米树脂可获得较低的表面粗糙度。系统抛光可明显降低纳米树脂材料表面细菌黏附量。

关键词: 纳米树脂, 抛光, 表面粗糙度, 变异链球菌, 黏附

Objective

To investigate the effect of five different polishing systems on the surface roughness of nanofilled composite resin and adhesion of Streptococcus mutans.

Methods

The nanofilled composite resin were selected for this study named Filtek Z350 XT, fifty four specimens were prepared and divided into 6 groups randomly. Five polishing groups specimens were subjected to five different polishing system (OptiDisc, HiLuster^Plus, Sof-Lex, Super-snap, Composite Polishing Kit CA0310) treatment, whereas one group received no further surface treatment. Average surface roughness (Ra) were assessed using confocal laser scanning microscope (CLSM) . Then Streptococcus mutans adhered to the 6 groups specimens were cultured in vitro, and the bacterial adhesion amount was measured. ANOVA was used to assess the surface roughness of specimens and the bacterial adhesion amount.

Results

In the five polishing group, the lowest Ra value was obtained in the HiLuster^Plus group, except it had lower value than Composite Polishing Kit CA0310 (P= 0.016) , there was no significant difference between the other groups, showing the low surface roughness all. There was no significant difference in bacterial adhesion amount between the five polishing groups, which was lower than that of the non-polishing group (P<0.05) .

Conclusions

The smoothest surface was obtained by Filtek Z350 XT with the use of the polishing system of HiLuster^Plus. After polishing systems treatment the amount of the bacteria adhered to nanofilled composites resin decreased significantly.

Key words: Nanofilled composites resin, Polishing, Average surface roughness, Streptococcus mutans, Bacterial adhesion

表1 5种抛光套装使用方法

产品名称	制造商	用法
OptiDisc	Kerr	1. 粗磨（深红）	≤20 000 r/min 15 s
?	Switzerland,美国	2. 修整（橘红）	≤20 000 r/min 15 s
?	?	3. 抛光（橘黄）	≤20 000 r/min 15 s
?	?	4. 精抛（浅黄）	≤20 000 r/min 15 s
HiLuster^Plus	Kerr	1. 粗磨（Composite Polishing Kit CA0310绿色砂石）	≤30 000 r/min 15 s
?	Switzerland,美国	2. 修整（Composite Polishing Kit CA0310白色砂石）	≤30 000 r/min 15 s
?	?	3. 抛光（Gloss^Plus盘状磨头）	≤20 000 r/min 20 s
?	?	4. 精抛（Dia盘状磨头）	≤20 000 r/min 20 s
Sof?Lex	3M ESPE	1. 粗磨（深红）	≤10 000 r/min 15 s
?	St.Paul,MN,美国	2. 修整（橘红）	≤10 000 r/min 15 s
?	?	3. 完成（橘黄）	≤10 000 r/min 15 s
?	?	4. 抛光（浅黄）	≤10 000 r/min 15 s
Super?snap	SHOFU	1. 修整（黑色）	≤15 000 r/min 20 s
?	Kyoto,日本	2. 完成（紫色）	≤15 000 r/min 20 s
?	?	3. 抛光（绿色）	≤15 000 r/min 20 s
?	?	4. 精抛（粉色）	≤15 000 r/min 20 s
Composite Polishing	SHOFU	1. 修整（绿色砂石）	≤30 000 r/min 15 s
Kit CA0310	Kyoto,日本	2. 精修（白色砂石）	≤30 000 r/min 15 s
?	?	3. 抛光（子弹头硅橡胶磨头）	≤20 000 r/min 20 s
?	?	4. 精抛（精细杯状硅橡胶磨头）	≤20 000 r/min 20 s

表1 5种抛光套装使用方法

产品名称	制造商	用法
OptiDisc	Kerr	1. 粗磨（深红）	≤20 000 r/min 15 s
?	Switzerland,美国	2. 修整（橘红）	≤20 000 r/min 15 s
?	?	3. 抛光（橘黄）	≤20 000 r/min 15 s
?	?	4. 精抛（浅黄）	≤20 000 r/min 15 s
HiLuster^Plus	Kerr	1. 粗磨（Composite Polishing Kit CA0310绿色砂石）	≤30 000 r/min 15 s
?	Switzerland,美国	2. 修整（Composite Polishing Kit CA0310白色砂石）	≤30 000 r/min 15 s
?	?	3. 抛光（Gloss^Plus盘状磨头）	≤20 000 r/min 20 s
?	?	4. 精抛（Dia盘状磨头）	≤20 000 r/min 20 s
Sof?Lex	3M ESPE	1. 粗磨（深红）	≤10 000 r/min 15 s
?	St.Paul,MN,美国	2. 修整（橘红）	≤10 000 r/min 15 s
?	?	3. 完成（橘黄）	≤10 000 r/min 15 s
?	?	4. 抛光（浅黄）	≤10 000 r/min 15 s
Super?snap	SHOFU	1. 修整（黑色）	≤15 000 r/min 20 s
?	Kyoto,日本	2. 完成（紫色）	≤15 000 r/min 20 s
?	?	3. 抛光（绿色）	≤15 000 r/min 20 s
?	?	4. 精抛（粉色）	≤15 000 r/min 20 s
Composite Polishing	SHOFU	1. 修整（绿色砂石）	≤30 000 r/min 15 s
Kit CA0310	Kyoto,日本	2. 精修（白色砂石）	≤30 000 r/min 15 s
?	?	3. 抛光（子弹头硅橡胶磨头）	≤20 000 r/min 20 s
?	?	4. 精抛（精细杯状硅橡胶磨头）	≤20 000 r/min 20 s

表2 5种抛光系统抛光后的平均粗糙度Ra值（μm，±s）

组别	样本数	Ra值
对照组	5	0.155 ± 0.02
OptiDisc组	5	0.205 ± 0.01
HiLuster^Plus组	5	0.196 ± 0.02
Sof?Lex组	5	0.206 ± 0.01
Super?snap组	5	0.208 ± 0.01
Composite Polishing Kit CA0310组	5	0.224 ± 0.03

表2 5种抛光系统抛光后的平均粗糙度Ra值（μm，±s）

组别	样本数	Ra值
对照组	5	0.155 ± 0.02
OptiDisc组	5	0.205 ± 0.01
HiLuster^Plus组	5	0.196 ± 0.02
Sof?Lex组	5	0.206 ± 0.01
Super?snap组	5	0.208 ± 0.01
Composite Polishing Kit CA0310组	5	0.224 ± 0.03

图1 激光共聚焦扫描显微镜分析6组样本表面粗糙度的三维图片

图2 不同抛光系统处理后纳米树脂表面细菌黏附量

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